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台积电6纳米制程将于明年一季度进入试产

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  10月8日消息,台湾地区半导体制造商台积电日前透露,该公司6纳米制程技术将于明年第一季度进入试产,明年年底前量产。

  台积电称,其极紫外光(EUV)微影技术之7纳米强效版(N7 )制程已协助客户产品大量进入市场。导入EUV微影技术的N7 奠基于该公司成功的7纳米制程之上,为6纳米和更先进制程奠定良好基础。

  N7 的量产速度为史上量产速度最快的制程之一,于2019年第二季开始量产,在7纳米制程技术(N7)量产超过一年时间的情况下,N7 良率与N7已相当接近。

  N7 同时提供了整体效能的提升,N7 的逻辑密度比N7提高了15%至20%,并同时降低了功耗。台积电快速布建产能以满足多个客户对于N7 的需求。

  台积电表示,EUV微影技术使公司能够持续推动晶片微缩,因EUV的较短波长能够更完美地解析先进制程的设计。台积电的EUV设备已达成熟生产的实力,EUV设备机台也达到大量生产的目标,在日常运作的输出功率都大于250瓦。

  台积电称,N7 的成功经验是未来先进制程技术的基石。台积电6纳米制程技术(N6)将于2020年第一季进入试产,并于年底前进入量产。随着EUV微影技术的进一步应用,N6的逻辑密度将比N7提高18%,而N6凭借与N7完全相容的设计法则,也可大幅缩短客户产品上市的时间。

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